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Ich möchte Versuche (zur Oxidationskinetik von Te Kolloiden) mit elementarem Tellur durchführen, dafür ist es wichtig, dass das Te nicht bereits oberflächlich oxidiert ist. Ich benutze Pulver, das ich durch Verreiben von massiven Te Stücken gewinne. Te Barren sind silbrig glänzend, das Pulver braun. Ich weiss nicht, ob Tellur bei Raumtemperatur an der Luft eine Oxidschicht ausbildet, und wenn ja, wie man diese entfernt. Da TeO2 in Basen leicht löslich ist, könnte ich das Pulver zwar waschen, aber wie verhindere ich, dass sich beim Trocknen und beim späteren Handling wieder Oxid bildet ?
Wenn ein Pulver, mit dem ich die Tellur-Stammlösung herstelle, schon merklich oxidiert ist, stimmt die Einwaage schon mal nicht und ich habe keine Möglichkeit, den Gehalt an Te(0) in der Stammlösung direkt zu messen.
Wenn man mit der Möglichkeit rechnet, dass mehr als nur irrelevante Oxidation schon während des Mischens erfolgen kann, dann würden nicht nur das Aufbewahren der Stammlösung unter Stickstoffatmosphäre und diesbezügliche Überlegungen sinnlos, es wäre mMn nicht einmal möglich , die Startzeit der Messung hinreichend genau zu definieren. Es sei denn, man definierte den ersten Messpunkt als t = 0. Was im Übrigen mE den Wert der Arbeit nicht tangieren würde. Auch nicht deren "Eleganz". Warum eigentlich sollte diese davon abhängen, ob man die Messung mit Produktaktivität "Null" oder einer davon verschiedenen, dafür aber sauber definierten Konzentration beginnt ? Mal angenommen, es würde gelingen, die Messung mit "Null Produkt" zu starten, dann hielte ich es für so gut wie ausgeschlossen, dass der Mechanismus und damit auch das Zeitgesetz während einer längeren Zeit unverändert bleiben.Ich kann natürlich die wässrige Verdünnung, in der die Oxidation stattfinden soll, unverzüglich nach Mischen messen, und werde dann natürlich auch Te(IV) finden, aber ich weiss nicht, ob dieses Te(IV) dann bereits in der Stammlösung vorhanden war oder unmittelbar nach dem Verdünnen entstanden ist.
Oberfläche, Oxid, Te, Tellur